대만, TSMC 기술 유출 관련자에 징역 10년 선고…한국은 처벌 약해

대만 법원이 TSMC의 2나노미터 공정 기술을 유출한 전 직원 천리밍에게 징역 10년을 선고했다. 이는 대만이 2022년 국가안전법 개정으로 신설한 '경제간첩죄'를 반도체 기술 유출에 처음 적용한 판결로, 국가 핵심 기술 보호에 강경 대응하는 대만의 의지를 보여준다.

반면 한국은 삼성전자의 18나노 D램 공정을 중국 CXMT에 넘긴 전 부장에게 징역 6년 4개월만 선고했다. 국내 산업기술 유출 범죄 중 절반 이상이 집행유예로 처리되고 있으며, 지난해 기술 유출 검거 건수는 179건으로 전년 대비 45% 급증했다.

기술 패권 경쟁이 심화하는 가운데 한국의 낮은 처벌 수위는 산업 경쟁력 저하로 이어질 수 있다는 우려가 제기된다. 산업 스파이에도 간첩죄를 적용해 기술 유출을 엄단해야 한다는 목소리가 현장에서 나오고 있다.