정부, EUV 장비 도입 절차 대폭 간소화

정부가 반도체 극자외선(EUV) 장비의 국내 도입 절차를 간소화하기로 결정했다. 산업통상자원부는 2일 국무회의에서 EUV 장비를 고압가스 일반제조시설이 아닌 '특정설비' 기준으로 전환하는 '고압가스 안전관리법 시행령' 개정안을 의결했다.

EUV 장비 도입 기간은 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축되며, 장비 한 대당 약 5억원의 비용 절감 효과가 기대된다. 정부는 3년 주기로 공장심사와 종합공정검사를 실시해 기존과 같은 수준의 안전성을 유지할 계획이다.

이번 규제혁신으로 삼성전자와 SK하이닉스 등 반도체 기업들의 첨단 생산라인 구축이 가속화될 전망이다. 정부는 친환경 세탁기 상용화 지원과 고압가스 시설 안전관리자 자격요건 완화도 함께 추진한다.